G-43D4型高精密单面光刻机
产品介绍:
设备概述:
本设备是我公司根据市场需求研发的产品,可以光刻Φ4"以下基片,对被光刻基片的外形、厚度要求较低,可对多种材料的基片进行光刻。它特别适用进行一次光刻的产品,可制作声表面器件、可控硅、小液晶显示器、传感器、二极管、园光栅、编码盘等。按用户要求可提供圆形承片台或方形承片台,不管哪一种承片台,都能实现“真空密着”曝光,加之光均匀性好,所以大大提高光刻质量。
	
 
 
曝光头及部件图
	-主要构成
主要由防震工作台、高均匀性<span style="font-family:" font-size:16px;"="">LED4"专用曝光头、气动系统、电气控制系统、真空管路系统、直联式真空泵及附件箱等组成。  
主要功能特点
	
Φ100mm以下,厚度(包括非圆形基片
   
	有真空掩膜版架、真空片吸盘。    3. 操作简便  本设备操作简单,调试、维护、修理等都非常简便。    4. 设备运行稳定、可靠  采用进口电磁阀、按钮、定时器;采用独特的气动系统、真空管路系统和精密的机械
   的基片造成的版片分离不开所引起的版片无法对准的问题<span style="font-family:;" "="">
主要技术参数:
1、操作方式:手动。
2、曝光模式:接触式曝光。
3、曝光面积:Φ4",配置4"LED专用曝光头,紫外光源寿命≥2万小时
4、紫外光源:365nm。
5、实现“真空密着”曝光,但基片厚度≤2mm。
6、分辨率:2um
7、 光的不均匀性:≤±3%;
8、样品尺寸:Φ100mm。
9、曝光强度:0~30mw/ cm2可调(此指标用紫外光源I线365nm测量)。

    
  
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